俄罗斯科学院放出豪言：2028年自行研发出光刻机，可生产7nm芯片

根据俄罗斯下诺夫哥罗德战略发展署的官方文件，俄罗斯科学院下诺夫哥罗德应用物理研究所正在研发俄罗斯第一套半导体光刻设备，并向外界吹嘘这套掩模版光刻机可以使用7nm生产芯片，2028年可以全面投产。

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据报道，他们计划在6年内做出掩模版对准器的工业样机，并在2024年首先研发出阿尔法机这一阶段的重点不是其工作或解决方案的高速度，而是所有系统的全面性

那么，到2026年，α应该被β取代到那时，所有的系统都会得到改进和优化，分辨率会提高，生产率会提高，很多操作会机械自动化在这个阶段，重要的是将其融入到实际的工艺流程中，通过拉起适用于其他生产阶段的设备进行调试

第三步也是最后一步将为光刻机带来更强的光源，改进的定位和进给系统，并使这种光刻系统快速准确地工作。

据本站报道，俄罗斯现在可以生产65纳米工艺的芯片国家此前公布了2030年发展28nm工艺的国家计划，希望对国外芯片进行逆向工程，培养本土半导体人才

俄罗斯科学院纳米结构研究所副所长表示，ASML作为全球光刻机的领导者，近20年来一直致力于EUV曝光机，目标是保持世界顶级半导体制造商极高的生产效率但是俄罗斯不需要，只要按照俄罗斯国内的需求往前走就行了

从其他外媒的评价来看，俄罗斯的想法似乎太天真了毕竟，很难相信它想在六年内独自开发出堪比ASML十年积累的光刻技术而且晶圆厂不能只靠光刻机生产芯片，还需要很多外围设备，俄罗斯不符合独立生产这些设备的条件

值得一提的是，下诺夫哥罗德代表团还向大家展示了未来光刻设备的演示样品该系统是基于下诺夫哥罗德的IAP RAS开发，制造和安装的可是，他们自己也提到，这甚至不是一个设备的原型，而是一个原型的原型

虽然这种演示设备不能解决实际的工业问题，但它可以让科学家有机会验证关键技术的可行性，并测试进一步工作所需的其他关键假设。